光刻 图形化 智能化 多元化 解决方案 一家专注于客户微纳图形化解决方案的高科技公司,通过创新的设备和工艺解决客户从纳米尺度到微米尺度的图形化和良率提升方案。 联系我们 质量. 安全. 信赖. 合作. 产品与解决方案 通过创新的光刻工艺和设备服务半导体行业 紫外光刻 适合微光学,MEMS 以及化合半导体的光刻 投影光刻机 满足0.13um 级别制程图形光刻 电子束光刻机 满足客户20nm 级别线宽的曝光 激光直写光刻 无需要掩模,数字直接成像 行业应用 化合物半导体 GaN 和GaAs 具有高的禁带宽度和高的载流子迁移率,适合做高频器件,但是工艺中希望栅极精度要求100nm级 […] Si基半导体 无论是的Si 基本CMOS 工艺和BCD 工艺开发,以及硅基MEMS 的工艺开发,都需要用到精密的光刻, 主要 […] 泛半导体 采用Mask Aligner进行微光学透镜的制备和Stepper 光刻机进行0.13um 级别的DOE 制备 […] 琮光半导体帮助我们快速量产,他们提供的电子束光刻服务方案非常专业! 张经理琮光客户 为何选择我们 技术导向 我们将持续投入研发,并引入最先进的技术,确保我们的产品在性能、精度和稳定性方面处于行业领先地位。 服务及时 我们建立了完善的服务体系和客户支持团队,确保客户在任何时候都能得到及时的帮助和支持。 产品质量 从原材料采购到生产制造,再到产品出厂前的严格测试,我们都严格把控每一个环节,确保每一台出厂的紫外光刻机都具有卓越的质量和可靠性。 生产安全 在生产过程中,我们注重安全生产教育和培训,确保员工具备安全生产意识和技能。 公司简况 公司目前具有紫外光刻机,投影光刻机,和电子束光刻机,并建立有500平米洁净室,通过光刻的创新为客户提供各种光刻图形化解决方案。 公司成立年数 0 + 行业奖项 0 行业客户数 0 项目完成数 0 Contact Us We are ready to help you with your home renovation project. 请在浏览器中启用JavaScript来完成此表单。请在浏览器中启用JavaScript来完成此表单。Name *Email *PhoneBook Appointment 欢迎与您沟通交流 联系我们