激光直写光刻

无需要掩模，数字直接成像，省去了掩模制作过程可以进行快速打样，同时还可以进行3D 灰度光刻，最高精度可以满足0.5um 的器件制作，同时也可以用于化合物半导体的光刻工艺开发